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富士康新技術(shù)提高LED的量子效率

上傳人:未知

上傳時(shí)間: 2009-06-30

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  鴻海精密股份有限公司(Hon Hai Precision Industry Co)藉由集團(tuán)子公司富士康為Nokia、Apple與Dell等國(guó)際大廠代工。富士康是目前全球最大的電子制造商之一,他們宣稱以氫化的碳化硅(hydrogenated SiC)作為L(zhǎng)ED的基板材料,可以有效改善LED芯片的散熱問題。他們?cè)?月28日提出兩項(xiàng)LED專利的申請(qǐng)。

  這個(gè)總部在臺(tái)灣地區(qū)的公司申請(qǐng)的兩項(xiàng)LED專利,范圍包括使用InGaN或AlGaAs作為活性層、單量子阱或多重量子阱層。富士康的LED與一般LED外延結(jié)構(gòu)的差別在于,前者在活性層兩側(cè)的局限層摻雜了直徑20-200 nm的納米微粒。發(fā)明人陳杰良(Ga-Lane Chen)為鴻海集團(tuán)的首席技術(shù)官,他在專利申請(qǐng)書中指出,摻入的納米微??梢允堑?SiN)、氧化硅(SiO)、氧化鎵(GaO)、氮化鎵(AlN)或氮化硼(BN),將有助于改善LED裸晶的芯片質(zhì)量。

  專利中寫道,納米微??梢愿淖僴型與p型局限層的晶格常數(shù)(lattice constant),進(jìn)而減少晶格的應(yīng)變。通過減小應(yīng)變,在n型局限層上沉積活性層以及在活性層上沉積p型局限層時(shí),可以降低晶格錯(cuò)位(dislocations)產(chǎn)生的機(jī)會(huì)。此外,晶格應(yīng)變減小也會(huì)使活性層與局限層間的應(yīng)力降低,進(jìn)而改善量子效率。

  鴻海于2001年創(chuàng)立沛鑫半導(dǎo)體工業(yè)股份有限公司(Foxsemicon Integrated Technology Inc.,F(xiàn)ITI),做為專門研發(fā)生產(chǎn)TFT-LCD、LED照明與LED顯示器的子公司。從2006年起迄今,鴻海精密、沛鑫半導(dǎo)體與富士康已經(jīng)在美國(guó)申請(qǐng)了一些LED芯片的專利。

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